小型1200℃真空熱處理爐主要用途與類型

小型真空熱處理爐是真空技術(shù)與熱處理技術(shù)相結(jié)合的新型熱處理技術(shù)，真空熱處理所處的真空環(huán)境指的是低于一個(gè)大氣壓的氣氛環(huán)境，包括低真空、中等真空、高真空和超高真空，真空熱處理實(shí)際也屬于氣氛控制熱處理。真空熱處理是指熱處理工藝的全部和部分在真空狀態(tài)下進(jìn)行的，熱處理質(zhì)量大大提高。與常規(guī)熱處理相比，真空熱處理的同時(shí)，可實(shí)現(xiàn)無(wú)氧化、無(wú)脫碳、無(wú)滲碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脫脂除氣等作用，從而達(dá)到表面光亮凈化的效果。

小型1200℃真空熱處理爐主要用處：

適用于電子陶瓷與高溫構(gòu)造陶瓷的燒結(jié)、玻璃的精細(xì)退火與微晶化、晶體的精細(xì)退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米資料的燒結(jié)、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝請(qǐng)求的熱處置，是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)不錯(cuò)的實(shí)驗(yàn)和消費(fèi)設(shè)備此款真空熱處置爐，銜接有真空泵，可抽真空通惰性氣體等，特地設(shè)計(jì)用于對(duì)物料在真空狀態(tài)并通一定氛圍（如惰性氣體等）環(huán)境下停止燒結(jié)，額定溫度能夠到達(dá)1800℃。此款真空熱處置爐采用氧化鋁纖維作為爐膛資料，以硅鉬棒或者硅碳棒為加熱元件，爐體設(shè)計(jì)是爐膛具有較好的真空密封性，爐體上裝置有氣體控制系統(tǒng)。

真空熱處置爐主要用處：高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氛圍燒結(jié)、氛圍復(fù)原、 CVD 實(shí)驗(yàn)、真空退火用的不錯(cuò)產(chǎn)品工礦企業(yè)不錯(cuò)的實(shí)驗(yàn)和消費(fèi)設(shè)備。

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